真空泵在真空鍍膜業(yè)中的應用

關于真空鍍膜設備
鍍膜在一個由金屬、塑料或者玻璃沉積真空形式下完成，這個過程中，真空起著決定性的作用。大多數(shù)情況下，鍍膜過程幾乎不能在非真空的環(huán)境下完成。在鍍膜開始前需要提供一個中真空甚至高真空的環(huán)境，此后再提取反應氣體或蒸發(fā)原材料。
以上過程都通過真空鍍膜機來實現(xiàn)，真空鍍膜機一般可分為以下四個部分：
1.真空室——真空主體
真空室由具有防銹和穩(wěn)固功能的不銹鋼鑄造而成。它的每一個零件都通過聯(lián)合閥來連接
2.真空系統(tǒng)——輔助排氣系統(tǒng)
此系統(tǒng)對真空鍍膜設備至關重要，主要包括機械泵、增壓泵（羅茨真空泵）和油擴散泵
機械泵也稱為預真空泵，如：活塞真空泵，旋片式真空泵，往復真空泵等。機械泵的工作原理是通過保持機械密封以改變腔體容量，這會使容器內(nèi)氣體持續(xù)擴散從而提高真空度。
增壓泵也稱為羅茨泵，由于其工作原理與羅茨鼓風機相似，因此它也被稱為羅茨真空泵。該泵不能單獨使用，它必須在類似機械泵一樣的機組中有前級泵的前提下才能工作。
對于高真空應用，我們提供渦輪分子真空泵和油擴散真空泵，它們在有前級泵的組合情況下可以精確地適應涂覆工藝。
油擴散泵抽速很快，工作壓力可達10^-2到10^-5帕，操作方便，使用壽命長。
3.真空鍍膜系統(tǒng)——蒸發(fā)系統(tǒng)
蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置，如：電阻加熱，電子槍蒸發(fā)，射頻濺射，離子鍍等。
我們EVP真空技術可廣泛應用于于以下鍍膜步驟：
蒸發(fā)真空鍍膜
真空濺射鍍膜
物理氣相沉積（PVD）
化學氣相沉積（CVD）
高能等離子體沉積真空鍍膜
金屬化真空鍍膜
4.控制系統(tǒng)
控制系統(tǒng)包括三個部分：控制柜，變壓器和控制臺。
所有過程都有一個共同要求：泵體內(nèi)有一個完全可靠的中真空或高真空環(huán)境以滿足鍍膜需求。執(zhí)行鍍膜操作時，需要改變材料的表面特性，如硬度和耐腐蝕性。真空鍍膜也可以用于提高材料的粘合、潤濕性質(zhì)，或使表面永久疏水或親水。
我們的真空系統(tǒng)被廣泛用于所有基于真空鍍膜的步驟中。